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配有HMDS氣體檢測的HMDS烘箱

      HMDS烘箱用于光刻前基板的疏水性處理工藝。它是將HMDS（六甲基二硅胺烷）通過氣相沉積的方法均勻的涂布在基底表面，使基底表面接觸角增大，基底表面由親水性變為疏水性，就會增強光刻膠的粘附性。避免了顯影后光刻膠漂膠、裂膠的不良現象。

但是HMDS具有一定的傷害性，大量吸入會刺激與灼傷鼻子與呼吸道器官系統，會產生頭痛、呼吸困難、呼吸急銷遲促、咳嗽以及眼睛紅腫并感到眼睛來自刺痛與灼傷。所以，在使用過程中的安全性不容忽視。

我司HMDS烘箱獨特的設計原理，使得整個工藝過程都在密閉的回路中完成，并有效排出殘余氣體，同時具有HMDS實時監測功能，具有泄露報J提示音。

溫度范圍：RT+10-200℃

真空度：≤1torr

操作方式：一鍵運行 

真空泵：無油渦旋真空泵

容積：40L/90L/210L,可定制

產品兼容性：2~12寸晶圓及碎片、方片等

適用行業：MEMS、濾波、放大、功率等器件，晶圓、玻璃、貴金屬，SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO（氧化鎵）、金剛石等第三代半導體材料。